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弹性发射抛光

弹性发射抛光

李佳慧,侯溪,张云,王佳,钟显云弹性发射光学制造技术研究

2021年9月18日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装 2021年1月22日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和弹性发射光学制造技术研究进展2021年10月7日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装弹性发射光学制造技术研究进展光学加工与制造光行天下 2023年6月25日 — 弹性发射加工（EEM）是获得超光滑表面的最有效技术之一。抛光轮将抛光颗粒供给到工件表面的特定位置，与工件发生化学反应，实现材料的无损去除。弹性发射加工材料去除的滚动模型分析,International Journal of

弹性发射光学制造技术研究进展百度文库

2021年2月22日 — 弹性发射加工技术是一种去除函数稳定，超低亚表面缺陷，面向原子级的超光滑加工方法，可以作为加工上述精度要求光学元件的手段。深紫外光刻,极紫外光刻和先进光源等现代光学工程需求牵引先进光学制造技术持续发展,要求超光滑光学元件表面粗糙度达到原子级水平以及表面全频段面形误差达到RMS(Root 弹性发射光学制造技术研究进展百度学术本文根据弹性发射加工特点以及其精度要求,搭建了一套用于弹性发射加工的装置,并对抛光过程中的抛光正压力和抛光距离进行了分析,通过对石英玻璃进行抛光实验验证了本装置可弹性发射数控抛光系统设计及搭建百度学术2016年11月9日 — 该实用新型采用抛光柱自转和工件自转的方式,适用于大口径超光滑光学元件弹性发射抛光,可消除抛光纹路,提高抛光效率、面形精度及降低表面粗糙度,减少表面损伤。一种弹性发射抛光装置百度学术

侯溪中国科学院大学UCAS

用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法一种弹性发射抛光装置[实用新型专利]专利内容由知识产权出版社提供专利名称：一种弹性发射抛光装置专源自文库类型：实用新型专利发明人：毛卫平,张清明,杨明洋,刘秦江申请号：CN 79 申请日：公开号：CN20614 0239U 公开日一种弹性发射抛光装置[实用新型专利]百度文库2007年9月24日 — 光学零件的加工基本包括切割成型、研磨、抛光三道工序；最终的光学表面质量由抛光决定，因此抛光是最重要的工序。通常高质量光滑表面的抛光是以沥青或纤维等弹性材料作磨盘，配以抛光液或研磨膏来达到技术要求。浮法抛光技术—中国光学光电子行业网 COEMA磁流变抛光技术(Magnetorheological Finishing,MRF)是利用磁流变抛光液在磁场中流变性进行抛光的一种超精密加工方法。磁流变液主要由离散的微米级磁性颗粒、载液和表长面活性剂组成。具有磁特性、流变性和稳定性等特点。在无外加磁场时，磁性微粒无规则分布，磁流变液为可流动液体状态;而在外加磁流变抛光技术百度百科

纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验研究百度学术

借鉴弹性发射加工的去除原理,本文提出了一种新的超光滑表面加工方法——纳米颗粒胶体射流抛光方法。纳米颗粒胶体射流抛光方法将界面化学、流体动力学理论与光学加工方法相结合,提供了一种可以实现原子级去处的加工方法。2024年6月17日 — 超光滑抛光光学元件福建福晶科技股份有限公司福晶科技晶体元件精密光学元件激光器件非线性光学晶体航空、激光和核聚变等领域的快速发展促使了对光学元件的指标要求越来越高，不仅要求各项光学指标达到极高的精度，对表面粗糙度也提出了低至埃级的超光滑表面要求。超光滑抛光光学元件福建福晶科技股份有限公司福晶科技 2024年9月27日 — 流体动压抛光基于流体剪切效应可实现非接触微去除，可获得粗糙度1 nm以下的超光滑表面，在先进光学及微电子材料加工领域有很好应用前景。基于球体弹性发射加工方式设计流体驱动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分布，从抛光间隙、工具球光学元件超光滑表面的流体动压抛光特性研究2021年7月24日 — 微小的磨粒微小的磨粒被抛光器弹性地夹持研磨工件。因而，磨粒对工件的作用力很小，即使抛光脆性非接触研磨技术是以弹性发射加工（EEM) 的理论为基础的。 EEM方法是利用微细粒子在材料表面上滑动时去除材料的加工。微细粒子以第5章超精密研磨与抛光PPT课件百度文库

我国突破纳米抛光新工艺中国科学院

2007年1月19日 — 目前，纳米级光滑表面的抛光加工方法有很多，如传统的机械干式抛光和湿式抛光、弹性发射抛光、动压浮离抛光、电场和磁场抛光、磁流变抛光(MRF)、湿式化学机械抛光、干式化学抛光、固着磨料抛光等。2023年5月24日 — 抛光是晶片表面加工的最后一道工序，目的是降低表面粗糙度，获得无损伤的光滑表面。常见的抛光方法有机械抛光、化学机械抛光 ( CMP) 、磁流变抛光、弹性发射抛光、动压浮离抛光、浮法抛光、低温抛光等。对于磷化铟材料，目前主要采用 CMP 方法进行磷化铟芯片抛光液北京国瑞升2021年12月30日 — 本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。2 弹性发射加工技术材料去除机理弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光弹性发射光学制造技术研究进展图13 弹性发射加工原理机理：微切削＋被加工材料的微塑性流动作用一、精细与超精细加工技术 ★ 液体动力抛光工作原理〔图14〕工具运动方向抛光工具抛光工具上开有锯齿槽，抛光液磨粒靠楔形挤压和抛光液的反弹，增加微切削作用。工件《超精密加工技术》PPT课件百度文库

基于流体动力润滑效应的双转弹性发射加工技术研究

弹性发射加工是基于流体动力润滑效应获取超光滑表面的一种重要方式，但是目前该方法在进一步改善粗糙度上遇到瓶颈，本文为了突破这一问题，对双转弹性发射加工技术进行系统研究，主要研究内容包括： (1)根据装置所需性能，对双转弹性发射加工装置进行设计。用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法 CN61, [3] 李梦凡, 胡小川, 赵远程, 侯溪一种光学元件表面缺陷高精度检测装置 CN59, [4] 赵远程, 胡小川, 李梦凡, 侯溪侯溪中国科学院大学UCAS2023年12月13日 — 基于光学镜片的研磨抛光的精密需求，目前又发展出了新的加工技术，如数控研磨和抛光技术、应力盘抛光技术、超光滑表面加工技术、延展性磨削加工、弹性发射抛光法、激光抛光、震动抛光等等新技术，这些新的加工技术，需要边检测、边修正，不仅加工一文读懂光学镜片抛光工艺（建议收藏）知乎2021年1月22日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的弹性发射光学制造技术研究进展

离轴多反共体光学自由曲面磨抛工艺与技术研究pdf原创力文档

2024年3月1日 — 图16弹性发射抛光基本原理图17加工椭球镜母版的EEP设备目前弹性发射抛光设备主要分为转子式、喷嘴式和振动式三种，喷嘴式适用于具有驻留时间控制的抛光过程。同济大学王昆等根据弹性发射抛光的运行精度2023年6月25日 — 弹性发射加工（EEM）是获得超光滑表面的最有效技术之一。抛光轮将抛光颗粒供给到工件表面的特定位置，与工件发生化学反应，实现材料的无损去除。然而，抛光轮与浆料之间的相互作用以及原子去除机制仍不清楚。在这项研究中，在三维状态下考虑抛光轮和浆料之间的相互动态相互作用，并建立弹性发射加工材料去除的滚动模型分析,International Journal of 2007年1月19日 — 目前，纳米级光滑表面的抛光加工方法有很多，如传统的机械干式抛光和湿式抛光、弹性发射抛光、动压浮离抛光、电场和磁场抛光、磁流变抛光(MRF)、湿式化学机械抛光、干式化学抛光、固着磨料抛光等。我国突破纳米抛光新工艺中国科学院2014年8月13日 — 非接触抛光非接触抛光是指在抛光过程中工具与工间完全分离,直接利用抛光介质如抛光液中的游离磨粒,离子,电子等来对工件表面材料产生作用,实现材料微量去除如液体喷射抛光、离子束抛光、弹性发射加工等,因为抛光过程中工具与工件是分离的, 且材料弹性发射加工中磨粒群运动特性的研究（可编辑）豆丁网

磁流变抛光技术研究进展西安工业大学图书馆 XATU

2024年4月8日 — 磁流变抛光技术研究进展孙洹（图书馆）引言现代科学技术的发展对应用于各种光学系统中的光学元件提出了越来越高的要求。通常情况下，要求最终生产的光学元件具有高的面形精度、好的表面质量及尽量减少亚表面破坏层。弹性发射抛光工作原理抛光轮与工件表面形成小间隙，中间置抛光液，靠抛光轮高速回转造成微粉(磨粒) 磨料的“弹性发射”进行加工。深度极小时的状态。由于磨料处于游离状态，难以形成连续切削。通过转动和加压，磨料与工件间存在断续研磨第7章超精密研磨与抛光百度文库2018年7月6日 — 光、弹性发射抛光、水面滑行抛光等众多抛光方法[14￣17]ꎮ在当前的低弹性模量试样的原子级超光滑表面的平面抛光方法中ꎬ浴法、浮法与弹性发射抛光更具代表性ꎮ通过上述流体抛光的研究理论、技术方法线性液动压抛光装置设计及其动压力分布研究∗摘要：随着科学技术的发展,工业领域需要大量的大平面光学玻璃元件传统的光学加工方法不能满足大平面光学玻璃零件提出的加工效率和加工表面质量两个主要方面的要求,因此研究一种具有高效率和高精度的光学零件加工方法具有重要的实际意义弹性射流抛光是一种新型的光学零件精密加工方法面向光学玻璃的精密加工技术研究百度学术

弹性发射数控抛光系统设计及搭建百度文库

2021年10月8日 — 弹性发射数控抛光系统设计及搭建在静止状态下受力如图4左图所示，可得到： (2)在抛光过程中受力状态如图4右图所示，由于压电陶瓷伸长范围小于100μm，远小于L1、L2、L3的长度，故可认为FS、F0、F1到A点力臂距离始终分别为L3、 L2、L1 2015年7月8日 — Jeong[8]对弹性发射加工抛光区域的压力、速度进行分析ꎬ并对磨粒运动进行模拟仿真以此来揭示材料的去除机理ꎮKutbota等[9￣10]对弹性发射加工中磨粒的形态对材料去除率的影响进行研究ꎬ结果表明磨粒相对超光滑表面加工技术研究进展2016年11月9日 — 该实用新型采用抛光柱自转和工件自转的方式，适用于大口径超光滑光学元件弹性发射抛光，可消除抛光纹路，提高抛光效率、面形精度及降低表面粗糙度，减少表面损伤。 CNU 一种弹性发射抛光装置 Google Patents CNU 一种弹性发射抛光装置 Google Patents2024年4月26日 — 常用的超光滑反射元件加工技术主要有浴法抛光、聚四氟乙烯抛光等接触式抛光，以及浮法抛光、离子束抛光、等离子体辅助抛光、弹性发射加工、磁流变抛光等非接触式抛光。其中，弹性发射加工、磁流变抛光在加工元件类型以及元件表面精度与亚表面损伤等20242029年中国超光滑反射元件市场深度调研及发展前景

弹性发射加工中磨粒群运动特性的研究豆丁网

2015年11月16日 — 硕士学位论文弹性发射加工中磨粒群运动特性的研究StudyofBehaviourofParticleGroupMovementinElasticEmission 弹性发射加工中磨粒群运动 2020年3月12日 — 摘要随着集成电路技术的发展，特别是进入亚微米工艺后，关键尺寸的减小和高密度器件的实现，集成电路材料层之间的平整度变得越来越关键。因为传统的机械抛光方法不可避免地会在金属甚至介电层中产生与器件相同大小的划痕，从而导致光刻中的景深和聚化学机械抛光建模与应用综述,Nanotechnology Reviews XMOL弹性发射抛光机床离子束加工设备多面体超精密铣床电解超精密镗床研磨机床化学机械抛光机床磁流体抛光机床激光磁盘车床加工设备超声波研磨机床第3章超精密加工机床与设备百度文库2013年6月14日 — 采用流体抛光的方法进行试样制备可以取得成功[3]。国内外运用不同能量方式进行抛光，如电场、磁场控制流体特性的抛光以及弹性发射抛光、浴法抛光等，都存在经济性不高或加工效率方面存在不足[4]。郭钟宁教授[5]将超声波作为运动载体驱动磨料应声悬浮抛光磨粒微流场研究

长春光机所承担的国家科技重大专项项目“极紫外光刻关键技术

2017年7月4日 — 中科院长春光机所自上世纪九十年代起专注于 EUV/X 射线成像技术研究，着重开展了 EUV 光源、超光滑抛光技术、EUV 多层膜及相关 EUV 成像技术研究，形成了极紫外光学的应用技术基础。2002 年，研制国内第一套 EUV 光刻原理装置，实现了 EUV2015年11月16日 — 抛光(Magnetorheologicalfinishing,MRF)、弹性发射加工(ElasticEmissionMachining,EEM)、空化效应,产生新的复合或组合抛光方法,也是时下磨料流体抛光领域研究的一个热点。由于AJP的射流束容易受到空气的扰动,美国 QED公司的研究人员将AJP与MRF相磨料射流表面抛光研究综述本论文的工作内容包括以下几个方面: (1)阐述了光学玻璃零件的抛光机理，根据水射流的理论基础，结合弹性发射加工技术和磨料水射流抛光技术的机理研究分析了弹性射流抛光的材料去除机理，分析了抛光过程中会对加工效果产生影响的几个主要工艺参数。面向光学玻璃的精密加工技术研究 2019年6月2日 — 0 引言为解决机械抛光和化学机械抛光过程中磨粒与工件表面刚性接触，造成抛光表面产生细微划痕以及损伤层的难题，国内外学者提出了弹性发射抛光、浮法抛光、动压浮离抛光等非接触抛光加工方法，有效改善了传统抛光加工的刚性接触状态，将磨粒与工件的接触转变为准接触或者非接触 [1]。液动压悬浮抛光流场的数值模拟及抛光工具盘结构优化

弹性发射光学制造技术研究进展中国光学中国光学期刊网

2021年11月16日 — 本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的2021年3月15日 — 常见的抛光方法有机械抛光、化学抛光、化学机械抛光（CMP）、磁流变抛光、弹性发射抛光、流体抛光、低温抛光等[3]。目前，锗半导体材料主要采用化学机械抛光（CMP）方法进行抛光。锗晶片的抛光工艺研究进展参考网2016年2月24日 — 1一种用于获取超光滑表面的双转轮式弹性发射加工装置，其特征在于:包括公转单元和自转单元，所述公转单元包括公转电机和公转轴，所述公转电机驱动公转轴，所述自转单元与公转轴连接且由公转轴带动实现公转，所述自转单元包括自转电机、自转轴和抛光一种用于获取超光滑表面的双转轮式弹性发射加工装置的 2023年7月7日 — 2、典型的非接触式抛光以弹性发射加工为例，弹性发射加工(elastic emissionmachining，eem) 是日本大阪大学森勇藏教授在二十世纪七十年代提出的一种超精密加工方法，弹性发射加工不同于使用研磨垫的传统抛光，它是一种非接触式的加工工艺，加一种非接触式抛光中恒力控制及间隙调整装置及方法

一种弹性发射抛光装置[实用新型专利]百度文库

一种弹性发射抛光装置[实用新型专利]专利内容由知识产权出版社提供专利名称：一种弹性发射抛光装置专源自文库类型：实用新型专利发明人：毛卫平,张清明,杨明洋,刘秦江申请号：CN 79 申请日：公开号：CN20614 0239U 公开日2007年9月24日 — 光学零件的加工基本包括切割成型、研磨、抛光三道工序；最终的光学表面质量由抛光决定，因此抛光是最重要的工序。通常高质量光滑表面的抛光是以沥青或纤维等弹性材料作磨盘，配以抛光液或研磨膏来达到技术要求。浮法抛光技术—中国光学光电子行业网 COEMA磁流变抛光技术(Magnetorheological Finishing,MRF)是利用磁流变抛光液在磁场中流变性进行抛光的一种超精密加工方法。磁流变液主要由离散的微米级磁性颗粒、载液和表长面活性剂组成。具有磁特性、流变性和稳定性等特点。在无外加磁场时，磁性微粒无规则分布，磁流变液为可流动液体状态;而在外加磁流变抛光技术百度百科借鉴弹性发射加工的去除原理,本文提出了一种新的超光滑表面加工方法——纳米颗粒胶体射流抛光方法。纳米颗粒胶体射流抛光方法将界面化学、流体动力学理论与光学加工方法相结合,提供了一种可以实现原子级去处的加工方法。纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验研究百度学术

超光滑抛光光学元件福建福晶科技股份有限公司福晶科技

2024年6月17日 — 超光滑抛光光学元件福建福晶科技股份有限公司福晶科技晶体元件精密光学元件激光器件非线性光学晶体航空、激光和核聚变等领域的快速发展促使了对光学元件的指标要求越来越高，不仅要求各项光学指标达到极高的精度，对表面粗糙度也提出了低至埃级的超光滑表面要求。2024年9月27日 — 流体动压抛光基于流体剪切效应可实现非接触微去除，可获得粗糙度1 nm以下的超光滑表面，在先进光学及微电子材料加工领域有很好应用前景。基于球体弹性发射加工方式设计流体驱动抛光球，通过Fluent软件对抛光区流场仿真，分析了流体速度以及工件表面压力和剪切力分布，从抛光间隙、工具球光学元件超光滑表面的流体动压抛光特性研究2021年7月24日 — 微小的磨粒微小的磨粒被抛光器弹性地夹持研磨工件。因而，磨粒对工件的作用力很小，即使抛光脆性非接触研磨技术是以弹性发射加工（EEM) 的理论为基础的。 EEM方法是利用微细粒子在材料表面上滑动时去除材料的加工。微细粒子以第5章超精密研磨与抛光PPT课件百度文库2007年1月19日 — 目前，纳米级光滑表面的抛光加工方法有很多，如传统的机械干式抛光和湿式抛光、弹性发射抛光、动压浮离抛光、电场和磁场抛光、磁流变抛光(MRF)、湿式化学机械抛光、干式化学抛光、固着磨料抛光等。我国突破纳米抛光新工艺中国科学院